반도체와 디스플레이 등 국가핵심기술을 해외로 유출한 사범은 최대 징역 18년까지 선고받을 수 있게 양형 기준이 강화됐다.

대법원 양형위원회(위원장 이상원)는 지식재산·기술침해범죄 양형 기준 수정안을 의결했다고 20일 밝혔다.

국가정보원이 발표한 기술유출 적발 현황에 따르면 기술유출은 2019년 14건, 2020년 17건, 2021년 22건, 2022년 20건, 지난해 23건으로 매년 증가하고 있다. 최근 5년 동안 유출된 기술은 반도체가 38건으로 가장 많았고 디스플레이(16건), 자동차(9건), 배터리(7건) 등이 뒤를 이었다.

국가의 핵심기술을 해외로 빼돌리는 사례가 증가하고 있었지만 최대 권고 형량이 9년에 불과했고 실형 선고율도 20%에 미치지 못해 솜방망이 처벌이라는 지적이 이어졌다.

신설된 양형 기준에 따라 국가핵심기술을 해외로 유출하면 기본 3~7년에 가중 5~12년으로 최대 18년까지 처벌이 가능해진다.

산업기술을 유출한 범죄에 대해서도 징역 15년형까지 처할 수 있도록 양형 기준이 수정됐다. 산업기술의 단순 누설·도용도 최대 4년 2개월까지 처벌이 가능해진다.

양형위는 국가핵심기술과 산업기술을 빼돌리면 초범이라도 정상을 참작하지 않도록 하고 집행유예를 제한하는 규정도 신설했다.

양형위 관계자는 "기술침해 범죄에 대한 엄정한 양형을 바라는 국민적 공감대를 반영했다"고 말했다.