반도체 핵심기술을 중국에 유출한 전 삼성전자 연구원이 구속 갈림길에 섰다.

서울경찰청 안보수사대는 삼성전자의 반도체 기술을 중국에 유출한 전 연구원 A씨에 대해 구속영장을 신청했다고 15일 밝혔다.

A씨는 2014년 삼성전자가 개발한 20나노 D램 반도체 기술 공정도를 중국 기업인 청두가오전에 무단으로 유출한 혐의를 받는다.

A씨는 지난해 청두가오전의 현직 임원으로 재직하던 중 경찰의 자택 압수수색과정에서 해당 공정도가 발견돼 덜미가 잡혔다.   

경찰은 국내 반도체 기술인력의 대규모 유출 정황도 포착해 수사에 나섰다. 

수사 대상은 청두가오전 의뢰로 삼성전자와 SK하이닉스 임직원들을 중국 측으로 뺴내는 데 일조한 컨설팅·헤드헌팅 업체 10여 곳이다.

반도체 업계 관계자는 "국내 반도체 핵심인력들을 상대로 중국쪽에서 많이 연락을 하는 것은 사실"이라며 "경찰 수사를 바탕으로 기술 유출에 대한 근본적인 대책을 마련해야한다"고 말했다.